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音圈电机应用之—光刻机

返回列表 来源:同茂电机官网 浏览:- 发布日期:2019-04-09 11:52:19【

          光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。

          光刻工艺最主要的工件就是掩模和基片。光刻机掩模台系统中音圈电机运动工况分为扫描运动和定位运动,其中扫描运动主要完成硅片曝光处理,该运动对定位精度以及速度稳定性有极高要求,在稳定基础上追求时间的优化。然而,在扫描运动过程中,频繁加减速对系统机械框架产生冲击,影响光刻机定位精度,因此,合理规划扫描运动轨迹至关重要。

         音圈电机是一种直接驱动型电机,通常采用无铁芯的机械结构,这样的结构给运动控制带来诸多优点。由于没有铁芯,在电枢电流方向变化时可以认为没有剩磁,音圈电机的输出推力正比于电枢电流,线性度高。因此可以做到推力平稳、光滑,适用于力控制模式。无铁芯机构也使得动子惯量小,相比传统电机,有着较高的伺服带宽。由于音圈电机在应用中不需要传动设备,使得其工作中所受摩擦力仅仅来自于导轨的摩擦。这使得音圈电机系统具有较低的阻尼比。

          在其他的生产行业中,凡是对速度要求高,负载不大的场合,均适用于音圈电机的应用。如电子元器件的生产,电路板上元件的焊接,MEMS器件的装配,LED各生产工艺过程,如点胶、焊线、分装、检测等。总之,市场对高速伺服运动设备需求旺盛,而能满足市场需求的成熟产品种类还相对稀缺。研制这样一种符合市场需求的产品有着广阔的应用前景。